「公開展出前來不及申請專利？」在創作開發的過程中，你可能忽略掉了時間上的安排，忽略了公開參展可能會讓你的創作產生缺陷。為什麼會有缺陷？大多數的國家為了公共利益及促進產業發展，一旦技術或創作公開，一定程度代表此創作可被接觸及或再利用。簡單來說：「見光死」。
故欲公開技術或創作之人，公開之前應三思而行、謀定後動。
- 原則：
◦ 專利一旦參展即有公開事實，可能喪失專利要件而遭不准。
◦ 展覽中所展示的原型、所販售的作品集、所發放的DM，都可能涉及專利法第22條第1項各款，而喪失專利要件
- 例外：
◦ 台灣
▪ 在展出後12個月內向智慧局提出申請，有優惠期（Grace period）適用。
▪ 專利法第22條第3項申請人出於本意或非出於本意所致公開之事實發生後12個月內申請者，該事實非屬專利法第22條第1項各款或第2項不得取得發明專利之情事。現行無須檢附相關文件。
▪ 並未限制國內外展覽
◦ 美國
▪ 與台灣規定相似，有12個月期間的優惠期。
▪ 並未限制國內外展覽
◦ 中國
▪ 第24条 申请专利的发明创造在申请日以前六个月内，有下列情形之一的，不丧失新颖性：
▪ (一)在中国政府主办或者承认的国际展览会上首次展出的；
▪ (二)在规定的学术会议或者技术会议上首次发表的；
▪ (三)他人未经申请人同意而泄露其内容的。
◦ 歐洲
於6個月以內有以下要件有優惠期：
▪ （1）由於與該發明人／申請人有關的「明顯濫用（evident abuse）」所造成的公開。（例如：非申請人本意公開。其條件嚴苛難以證明）
▪ （2）少數公開展示於官方所主辦或認可之國際展覽會。
◦ 日本
▪ 於6個月以內，申請時需向特許廳檢附相關文件。
- 可能的解決方案：
◦ 申請美國臨時申請案（Provisional Application for Patent）事後再向台灣申請專利並主張巴黎公約優先權（Priority date），有12個月的時間在各國佈局。美國的臨時申請案不需要提供申請專利範圍，可以盡快取得一個申請日。
◦ 展覽上可以避免揭露相關要申請專利的內容，做小程度的公開；調整型錄的公開內容；以及，避免被拍照、被攝影。
◦ 如果無意進入其他國家市場，在台灣就放心參展並存留參展相關證據資料，於參展後12個月內申請台灣專利。但可能會有風險，因為常有後續因為市場反應或其他投資者因素而改變公司政策。
「姓名標示─非商業性─禁止改作」授權條款臺灣3.0版
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Author
楊杰凱 專利師
2018.02.12
總承國際專利商標事務所｜總承會計師事務所｜主持專利師｜商標代理人｜國立清華大學工業工程管理學系｜清大創新創業學分學程｜華盛頓大學法學院法學碩士｜接受新事物，突破舒適圈。主要提供公司成立及智財服務，從工商登記、商標設計、商標申請到專利申請。“Stay positive. Work hard. Make it happen.”
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