申請專利前公開草圖，是否會影響申請專利的結果？

本篇文章將討論公開草圖，會不會導致專利權產生瑕疵。產品設計的過程中，設計師在概念發想(Idea Generation)及設計發想(Idea Visualization)的過程中扮演很重要的角色，在過程中所創造的草圖會有許多想法(Idea)的誕生，然而這些「想法」透過草圖(Sketches)的公開是否會對專利的有效性產生影響呢？換言之，若草圖的公開及外流，將來申請專利時是否會構成先前技術(Prior art)，而破壞申請標的之新穎性(Novelty)或進步性/創作性(Non-obviousness)。〈本文暫不討論涉及優先權、優惠期及進步性等態樣〉

一、首先要了解，什麼內容的公開會讓專利有效性造成影響呢？

1.     在申請前公開的內容：

專利申請前公開的內容，例如圖片、照片、影片、原型等內容皆可以做為判斷專利是否有效的文件。而所謂公開，例如：在社群網站上分享、部落格的張貼、作品集的發表、設計展的展覽等行為都屬於公開。

2.     足夠的揭露程度：

只有公開還不足以讓專利失效，應視該些內容的揭露是否足以讓「該申請專利所屬技術領域中具有通常知識者所能了解並據以實現」。

二、「草圖」是否符合上述要件呢？

專利申請前公開的草圖應符合上述第一個條件，問題在於第二個條件。所謂「該申請專利所屬技術領域中具有通常知識者所能了解並據以實現」，講白話一點，就是指能夠透過草圖的內容來製造及使用該項申請專利的發明。而一般來說，光看圖式就能夠完成發明，圖式的內容通常必須揭露：

1. 各個部位對應到專利文件中的元件，並且
2. 清楚的呈現各元件之間的連接關係。

因此，如果草圖公開，再加上清楚的揭露資訊，就可能使專利失效。

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Author

楊杰凱 專利師
2017.03.07

總承國際專利商標事務所｜總承會計師事務所｜主持專利師｜商標代理人｜國立清華大學工業工程管理學系｜清大創新創業學分學程｜華盛頓大學法學院法學碩士｜接受新事物，突破舒適圈。主要提供公司成立及智財服務，從工商登記、商標設計、商標申請到專利申請。“Stay positive. Work hard. Make it happen.”